英特爾（INTC）股價在週二盤前交易中上漲逾4%，來到約98.95美元，延續前一交易日4%的漲勢。這家半導體公司已連續三個交易日累計上漲超過10%。

這波漲勢源於英特爾晶圓代工（Intel Foundry）與ASML宣布在High-NA極紫外（EUV）微影技術上取得重大里程碑。英特爾證實，已在測試階段、研發以及量產過程中，運用這項先進技術處理超過100萬片晶圓。此里程碑格外重要，因為High-NA EUV設備目前仍稀缺且昂貴——每台ASML EXE系統售價約3.5億至4億美元——而英特爾是首家取得該設備的晶片製造商，因此在該平台上擁有最早且公開紀錄的量產實績。

18A製程上的High-NA EUV

High-NA EUV是一種先進的晶片製造方法，專為生產日益精密的處理器與人工智慧晶片而設計。「High-NA」指的是系統具備更高的數值孔徑（0.55，相較於標準EUV的0.33），能為未來世代的晶片實現更精細的特徵解析度。英特爾已將該技術整合至18A製程的特定層，而18A正是即將推出的Panther Lake處理器產品線的基礎。

根據該公司說明，包括套刻精度、產能吞吐量與設備正常運轉時間在內的關鍵指標，均達到目標基準。此外，採用High-NA EUV製造的Intel 18A晶片，其效能與ASML傳統NXE EUV系統生產的對應層相當或更佳。

ASML執行長Christophe Fouquet形容英特爾是採用High-NA EUV技術的「關鍵領導者之一」。英特爾於2024年部署了業界首套商用ASML EXE High-NA系統，此後已將其轉入全面量產。

週一，該股還獲得不尋常的關注：川普總統在Truth Social上分享一張AI生成的圖片，描繪一筆假設性的英特爾投資——買入價20美元對照目前價格95美元，並宣稱其政府的政策已透過股票及其他投資為美國人創造了「數千億美元」的價值。

光罩基礎設施與微縮路線圖

英特爾與ASML正合作確保High-NA EUV與半導體業界標準的6吋光罩維持相容。客戶可選擇在傳統光罩尺寸內進行設計，或利用英特爾晶圓代工專有的拼接（stitching）技術。維持標準光罩格式對整體產業相當重要，因為改用更大光罩將需要光罩製造商、EDA供應商與晶片設計公司進行成本高昂的設備改造——這也是下述生態系統協調之所以重要的原因。

英特爾已投入三年以上時間，開發通往更大6×12吋光罩的路徑，以實現下一代晶片微縮。這項計畫涉及與ASML、光罩供應商、電子設計自動化夥伴及材料供應商的協調，以建立必要的製造生態系統。

英特爾執行副總裁兼晶圓代工共同總經理Naga Chandrasekaran強調，未來的AI產品需要已在量產中獲得驗證且對客戶友善的製造能力。

華爾街評級與技術面

英特爾獲得華爾街分析師共識「持有」（Hold）評級，過去三個月共有5個買進、24個持有與2個賣出評級。平均目標價為116.16美元，意味著較目前交易水準約有21%的上漲空間。以持有為主的評級結構，反映分析師圈對英特爾代工業務轉型潛力，以及其面臨市場龍頭台積電（TSMC）持續投資自身下一代微影技術路線圖所帶來競爭壓力的持續分歧看法。

在近期的分析師動向中，瑞穗（Mizuho）於9月4日重申中立立場，但將目標價下調至92美元。美國銀行（Bank of America）於8月12日維持買進評級，目標價145美元。瑞銀（UBS）維持中立評級，目標價112美元。

技術面方面，英特爾目前較其200日均線74.15美元高出33%，但略低於50日簡單移動平均線100.61美元及100日SMA的103.86美元。相對強弱指標（RSI）為50.33，顯示動能中性。主要阻力位接近107.50美元，支撐位約在89.50美元。

科技投資人Dan Niles指出，英特爾擴大的200億美元募資強化了他的論點，即該公司可能正在爭取需要額外產能的重大晶圓代工客戶合約。對於持續追蹤此故事的讀者，值得關注的具體里程碑包括Panther Lake在Intel 18A上的正式商用發表，以及任何承諾採用英特爾先進製程節點的外部代工客戶的揭露。