新聞大宗商品與外匯Fitzroy 以新一輪淺層鑽探結果推進智利 Buen Retiro 銅礦專案

Fitzroy 以新一輪淺層鑽探結果推進智利 Buen Retiro 銅礦專案

作者: Mining.com·

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  • Fitzroy Minerals 在 Buen Retiro 的最新鑽探確認了廣泛的淺層銅礦化,其中 BRT-DDH072 號鑽孔自 21.1 公尺深度起截獲 111.9 公尺、銅品位 0.97% 最為突出。
  • 依據入股協議,該專案的預可行性研究預計於 2025 年年中完成,將建立 Fitzroy 70%、Pucobre 30% 的合資架構。
  • Fitzroy 正在評估利用附近溶劑萃取-電積設施的堆浸製程路線,其資本支出通常低於傳統浮選。
  • 目前有四部鑽機在 Buen Retiro 持續運作,今年計畫再鑽探 9,000 公尺以支援資源量估算及預可行性研究。
  • 消息公布後 Fitzroy 股價上漲 5.3% 至 C$0.40,公司市值約 C$1.3 億。
Fitzroy 以新一輪淺層鑽探結果推進智利 Buen Retiro 銅礦專案

Fitzroy Minerals (TSXV: FTZ;US-OTC: FTZFF) 公布其位於智利的 Buen Retiro 專案沿 Tenorita 趨勢帶進一步揭露廣泛的淺層銅礦化,該公司正朝向初步資源量估算及預可行性研究推進,計畫於 2028 年投產。

最新結果包括 BRT-DDH072 號鑽孔,自 21.1 公尺深度起截獲 111.9 公尺、銅品位 0.97%,其中自 84 公尺起有 18 公尺銅品位達 1.59%,Fitzroy 週四在新聞稿中表示。BRT-DDH070 號鑽孔則自 26.3 公尺起截獲 147.7 公尺、銅品位 0.41%,其中自 113 公尺起有 47 公尺銅品位達 0.88%。

「Buen Retiro 持續交出優異成果,今日公布十五個鑽孔中有數個反映出接近地表的可浸出物料中存在寬廣的礦化帶,」總裁兼執行長 Merlin Marr-Johnson 在新聞稿中表示。「請注意,今日公布的最佳鑽孔——第 72 號鑽孔——位於第 70 號鑽孔以東,證實在 Tenorita 區域最寬部分約 300 公尺範圍內具有一致的淺層礦化。」

這些化驗結果延續了今年一系列的成果,Fitzroy 正為該棕地專案進行首次資源量與經濟評估研究。該公司正在評估堆浸作業方案,可為附近的溶劑萃取-電積設施提供原料——此為智利氧化銅礦床常用的製程路線,資本支出通常低於傳統浮選。今年四月,Fitzroy 與智利上市礦商 Pucobre 簽署意向書,勾勒出潛在的聯合開發路徑,包括可使用約 90 公里外的一座現有加工廠。

四部鑽機在 Buen Retiro 持續運作

Fitzroy Minerals 股價週五上午在多倫多上漲 5.3% 至每股 C$0.40,公司市值約 C$1.3 億(9,200 萬美元)。過去 52 週該股交易區間為 C$0.24 至 C$0.73。

預可行性研究預計於明年年中完成,此係依據與專案目前共同所有權人 Pucobre 及私礦合夥事業 Sociedad Contractual Minera Buen Retiro 簽訂的入股協議。雙方表示,最終合資比例可能為 Fitzroy 70%、Pucobre 30%。

Fitzroy 目前有四部鑽機在 Buen Retiro 運作,團隊目標於八月完成長 1.7 公里的 Tenorita 趨勢帶鑽探。該專案位於聖地牙哥以北約 1,000 公里、智利阿塔卡馬地區科皮亞波以南約 60 公里處,所在地智利是全球最大的銅生產國。專案涵蓋 Punta del Cobre 鐵氧化物銅金成礦帶內 132 平方公里,並包含曾經投產的 Manto Negro 礦場。

Candelaria 區域背景

Manto Negro 在 2005 年至 2009 年間由 Pucobre 運營,共生產 3,440 萬磅銅。該專案鄰近 Lundin Mining (TSX: LUN) 的 Candelaria 礦場,後者去年生產了 145,000 噸銅。

Fitzroy 計畫今年再鑽探 9,000 公尺,將 Tenorita 礦化帶升級為測定、指示及推測資源量以供預可行性研究使用,同時在礦區其他位置界定推測資源量並測試新探勘標的。自二月初以來,該公司已完成 78 個金剛石鑽孔,總計 13,036 公尺。

今年稍早的結果包括三月份公布的 BRT-DDH045 號鑽孔自 4 公尺起截獲 384 公尺、銅品位 0.23%,Fitzroy 表示這證實了大型 Candelaria 型礦化系統。六月份的化驗結果則截獲 59 公尺、銅品位 1.73%,其中 12 公尺銅品位達 5.39%,進一步強化了該公司的近地表資源目標。