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Nanoveu获美国专利:以硬件方式实现AI物体检测中的非极大值抑制

作者: The Market Online Australia·

要点速览

  • 美国专利商标局已授予Nanoveu一项美国专利,内容为在AI物体检测中执行非极大值抑制的专用硅电路,并独家授权给其EMASS部门。
  • 作为专利基础的同行评审研究报告显示,硬件实现在精度相当的情况下,速度较软件提升最高达75倍,较先前最先进的硬件加速器提升13.4倍。
  • 该专利模块已集成到支持BLE的16纳米ECS-DoT芯片中,该芯片于2026年1月在台积电进入流片阶段。
  • 该公司瞄准的边缘视觉应用包括智能摄像头、智能眼镜和AR/VR头显、无人机以及汽车传感,功耗效率是其中的关键竞争因素。
  • Nanoveu打算就语音、运动、传感器融合以及无人机能量优化和飞行控制技术进行进一步的专利申请。
Nanoveu获美国专利:以硬件方式实现AI物体检测中的非极大值抑制

先进半导体、可视化及材料科学专业公司Nanoveu(ASX: NVU)接到通知,美国专利商标局(USPTO)已授予一项美国专利,涵盖用于AI物体检测中非极大值抑制的专用加速器电路。

该专利归属于NTU,并独家授权给Nanoveu的超低功耗半导体部门EMASS。

非极大值抑制是每个AI物体检测流程的最终阶段。当检测器为同一物体提出多个重叠的候选框时,NMS会对它们进行筛选,仅保留最佳匹配并丢弃冗余检测结果。传统上它在软件中执行,会消耗不成比例的推理时间和能耗。这项获得专利的创新在专门构建的硅芯片中执行相同功能,消除了该公司所称的边缘视觉领域的结构性瓶颈。

在该专利所依据的同行评审研究中,该方案的硬件实现报告了高达75倍于同一算法软件实现的速度提升,以及13.4倍于先前最先进硬件加速器的速度提升,且检测精度相当,输入分辨率为全高清。

该专利机制以专用硬件加速模块的形式实现于支持BLE的下一代16纳米ECS-DoT芯片中,该芯片已于2026年1月在台积电进入流片阶段。对于一家小市值芯片设计公司而言,迈向16纳米制程节点是重要一步,这将ECS-DoT置于与主流边缘AI芯片相同的先进节点领域,而在该领域,每次运算的功耗效率是关键的差异化因素。

视觉是边缘AI的核心工作负载,而高效的物体检测正是让电池供电设备实现全天候运行变得可行的基础。边缘AI半导体的竞争主要体现在能效而非原始吞吐量上,因为摄像头和可穿戴设备等设备必须在紧张的功耗预算下持续运行推理,而不是依赖云端数据中心。该专利加强了ECS-DoT在智能摄像头和门铃、智能眼镜和AR/VR头显等可穿戴设备、无人机以及汽车传感等应用领域的定位。

EMASS创始人Mohamed Sabry博士表示,物体检测是边缘视觉芯片在功耗上成败的关键,而非极大值抑制正是传统上留给软件处理的阶段。

"这项专利涵盖的是改为在专用硬件中执行该功能,该模块已内置于我们的下一代16纳米硅芯片中。独家许可将该机制掌握在EMASS手中,我们打算在语音、运动和传感器融合领域走同样的道路,从研究走向受保护的硅芯片,"Sabry博士说。

该专利保护的是一个大得多的技术版图中的一项工作负载:ECS-DoT在公司目标垂直领域中处理视觉、音频和传感器数据。对于Nanoveu这一规模的公司而言,获得已授权美国知识产权的独家许可还可以加强其与大型半导体合作伙伴和客户的商业定位,因为在核心流程功能上的自由运营权是标准的尽职调查考量。Nanoveu此前已表示打算提交多项额外的专利族,涵盖其无人机能量优化和飞行控制技术,并计划在语音、运动和传感器融合领域进行进一步的专利申请。投资者可关注的近期指标是ECS-DoT推进流片进程并朝着预期交付可工作硅芯片的方向发展。

开盘前,NVU股价持平于5.8澳分,市值为6,599万澳元。