英特尔（INTC）股价在周二盘前交易中上涨超过4%，达到约98.95美元，此前一个交易日已上涨4%。这家半导体公司目前已连续三个交易日累计上涨超过10%。

此次上涨源于英特尔代工部门与ASML联合宣布的一项重要里程碑：在高数值孔径极紫外（High-NA EUV）光刻技术方面取得重大进展。英特尔确认，已在测试阶段、研发阶段以及全面生产阶段使用这项先进技术处理了超过100万片晶圆。这一里程碑意义重大，因为High-NA EUV设备目前仍稀缺且昂贵——每台ASML EXE系统的价格约为3.5亿至4亿美元——而英特尔是首家获得该设备的芯片制造商，使其在该平台上拥有早期且有公开记录的生产业绩。

18A制程上的High-NA EUV

High-NA EUV是一种先进的芯片制造方法，旨在生产日益复杂的处理器和人工智能芯片。"High-NA"指的是系统更高的数值孔径（0.55，而标准EUV为0.33），这能为未来芯片世代实现更精细的特征分辨率。英特尔已将该技术集成到其18A制造工艺的特定层中，而18A制程正是即将推出的Panther Lake处理器产品线的基础。

据该公司介绍，包括套刻精度、生产吞吐量和设备正常运行时间在内的关键指标均达到目标基准。使用High-NA EUV在英特尔18A上制造的芯片，其性能达到或超过使用ASML传统NXE EUV系统生产的同类层的性能。

ASML首席执行官Christophe Fouquet称英特尔是采用High-NA EUV技术的"关键领导者之一"。英特尔于2024年部署了业内首台商用ASML EXE High-NA系统，此后已将其投入全面生产。

周一，该股还获得了异常关注：特朗普总统在Truth Social上分享了一张AI生成的图片，图中显示假设以20美元买入英特尔与当前95美元的股价对比，并声称其政府政策已通过股票和其他投资为美国人创造了"数千亿美元"的价值。

光罩基础设施与制程扩展路线图

英特尔与ASML正在合作，确保High-NA EUV与半导体行业的标准6英寸光罩保持兼容。客户既可以在传统光罩尺寸内进行设计，也可以利用英特尔代工部门专有的拼接能力。保持标准光罩规格对整个行业非常重要，因为转向更大尺寸的光罩将需要光罩制造商、EDA供应商和芯片设计公司进行代价高昂的设备改造——这正是下文所述的生态系统协调具有重要意义的原因。

英特尔已花费三年多时间开发通向更大6×12英寸光罩的路径，以实现下一代芯片微缩。这项工作涉及与ASML、光罩供应商、电子设计自动化合作伙伴以及材料供应商的协调，以建立所需的制造生态系统。

英特尔执行副总裁兼代工联席总经理Naga Chandrasekaran强调，未来的AI产品需要经过生产验证且对客户友好的制造能力。

华尔街评级与技术位

英特尔持有华尔街分析师的共识"持有"评级，基于过去三个月发布的5个买入、24个持有和2个卖出评级。平均目标价为116.16美元，意味着较当前交易水平约有21%的上涨空间。这种以持有为主的评级结构反映了分析师群体在英特尔代工业务转型潜力与来自市场领导者台积电（TSMC）的竞争压力之间的持续分歧，台积电也在持续投资其自身的下一代光刻路线图。

在近期的分析师行动中，瑞穗（Mizuho）于9月4日重申中性立场，同时将目标价下调至92美元。美国银行（Bank of America）于8月12日维持买入评级，目标价145美元。瑞银（UBS）维持中性评级，目标价112美元。

从技术面看，英特尔股价较其74.15美元的200日均线高出33%。该股目前略低于100.61美元的50日简单移动平均线和103.86美元的100日均线。相对强弱指数为50.33，显示中性的市场动能。主要阻力位在107.50美元附近，支撑位在89.50美元左右。

科技投资人Dan Niles指出，英特尔扩大的200亿美元融资进一步支持了他的观点，即该公司可能正在争取需要额外制造产能的大型代工客户合同。对于持续跟踪此事的读者而言，值得关注的具体里程碑包括Panther Lake在英特尔18A上的商业发布，以及任何已具名的外部代工客户对英特尔先进制程节点的承诺披露。