NieuwsAandelenASML-aandeel stijgt nu Samsung en TSMC 400 miljoen dollar aan High NA EUV-machineorders vastleggen

ASML-aandeel stijgt nu Samsung en TSMC 400 miljoen dollar aan High NA EUV-machineorders vastleggen

Auteur: Coincentral·

Belangrijkste punten

  • Samsung en TSMC hebben beide bevestigd ASML's High NA EUV-lithografiemachines in te zetten, die elk circa 400 miljoen dollar kosten, waarmee de invoering zich uitbreidt tot buiten vroege gebruiker Intel.
  • Samsung is van plan de machines vanaf 2028 te gebruiken voor DRAM-geheugenproductie, terwijl TSMC in 2030 wil starten met High NA voor geavanceerde chips met steeds complexere transistorarchitectuur.
  • ASML, TSMC, Samsung en Intel spraken gezamenlijk af over te stappen van de 6-inch fotomaskerstandaard naar een groter 12-inch-formaat, wat volgens ASML's CTO de productie van High NA-machines met 40% kan verhogen.
  • TSMC vertegenwoordigt circa 16% van ASML's totale omzet, waardoor de toezegging een belangrijk signaal is voor investeerders die de invoering van High NA volgen.
  • Wall Street handhaaft een 'Strong Buy'-consensus voor ASML, met een gemiddeld 12-maands koersdoel van 2.468 dollar per aandeel, wat circa 44% upward potentieel impliceert.
ASML-aandeel stijgt nu Samsung en TSMC 400 miljoen dollar aan High NA EUV-machineorders vastleggen

ASML kreeg dinsdag twee grote klanttoezeggingen binnen, nu Samsung en TSMC beide hebben bevestigd de High NA extreme ultraviolet (EUV)-lithografiemachines van het bedrijf te gaan gebruiken voor toekomstige chipproductie.

Het ASML-aandeel steeg op het nieuws rond 1,6% in de vroege handel, waarmee een winst van ongeveer 120% over de afgelopen 12 maanden werd voortgezet.

Elke High NA-machine kost circa 400 miljoen dollar en gebruikt bredere lenzen om in één bewerking circuitlijnen tot drie keer kleiner op siliciumwafers af te drukken. Die precisie is steeds gevraagder nu chipmakers complexere ontwerpen nastreven voor AI-hardware. ASML is 's werelds enige leverancier van EUV-lithografie-uitrusting, waardoor het orderboek nauwlettend wordt gevolgd als graadmeter voor de richting van geavanceerde chipfabricage.

Tot nu toe werd de invoering van High NA aangevoerd door Intel, de eerste chipmaker die de machines in ontvangst nam. Samsung en TSMC gingen voorzichtiger te werk en wogen de hoge kosten van de machines af tegen de technische alternatieven om de huidige EUV-technologie verder te strekken; de toezeggingen van dinsdag markeren dus een verbreding van de klantenkring tot buiten één vroege gebruiker.

Samsung zei de machines vanaf 2028 te zullen inzetten voor de productie van DRAM-geheugenchips, met als doel de geheugen-scalingroadmap te verlengen en de productie-efficiëntie te verbeteren. TSMC hanteerde een latere startdatum van 2030, gericht op geavanceerde chips waar de transistorarchitectuur door AI-workloads steeds complexer wordt.

TSMC-topman C.C. Wei zei dat het bedrijf erin gelooft technische uitdagingen vroegtijdig aan te pakken, voordat ze kostenproblemen worden. TSMC vertegenwoordigt volgens Bloomberg ongeveer 16% van ASML's totale omzet, waardoor de toezegging een belangrijk signaal is voor investeerders die de invoering van High NA volgen.

Fotomaskerupgrade biedt extra upward potentieel

Naast de machinetoezeggingen spraken alle vier bedrijven — ASML, TSMC, Samsung en Intel — af over te gaan van de huidige 6-inch fotomaskerstandaard naar een groter 12-inch-formaat.

Fotomaskers werken als sjablonen en gebruiken licht om kleine circuitpatronen op siliciumwafers af te drukken. De overstap naar een groter formaat vereiste historisch gezien afstemming in de hele toeleveringsketen — maskerfabrikanten, chipontwerpers en apparatuurmakers — waardoor het feit dat alle vier de bedrijven gezamenlijk toetreden verschil maakt voor de tijdlijn. ASML-technologiedirecteur Marco Pieters zei dat de grotere maskergrootte de productie van High NA-machines met 40% kan verhogen en het chipontwerp tevens makkelijker maakt.

Intel werkt al meer dan drie jaar aan het 12-inch-maskerproject terwijl het zijn productienetwerk uitbouwt. TSMC is van plan in 2030 te starten met High NA-tools met standaard 6-inch-maskers en daarna tegen 2031 een testlijn voor 12-inch-maskers op te zetten.

Reactie van Wall Street

Barclays noemde de aankondigingen "should provide more visibility on adoption which has been a key debate" ("ze zouden meer duidelijkheid moeten geven over de invoering, wat een belangrijke discussie was") en omschreef het nieuws als "a positive" ("een positief") voor het aandeel.

De bank wees er ook op dat ASML voor de keuze staat of het de EUV-capaciteit verder uitbreidt dan reeds vastgestelde doelen, waarbij werd geconstateerd dat de vraag "clearly strong" ("duidelijk sterk") is.

ASML heeft gezegd in 2027 circa 30% aan totale EUV-capaciteit toe te voegen, maar geen recente prognose gegeven over specifieke High NA-aantallen. Nu Samsungs eerste High NA-productie voor 2028 en die van TSMC voor 2030 op de planning staat, zullen analysten en investeerders bij toekomstige resultatenpresentaties letten op eventuele updates over High NA-volumerichtlijnen en op de vraag of ASML haar capaciteit uitbreidt boven de gestelde doelen.

Wall Street-analisten hanteren een 'Strong Buy'-consensus voor ASML, gebaseerd op zes Buy-ratings in de afgelopen drie maanden. Het gemiddelde koersdoel van 12 maanden ligt op 2.468 dollar per aandeel, wat circa 44% upward potentieel impliceert ten opzichte van het huidige niveau.

De in Amsterdam genoteerde ASML-aandelen stonden vlak tot licht lager in de vroege Europese handel, vóór de opening van de Amerikaanse sessie.

Het bericht ASML-aandeel stijgt nu Samsung en TSMC 400 miljoen dollar aan machineorders vastleggen verscheen het eerst op CoinCentral.