華為新晶片揭示中國繞過微影差距的戰略
重點速覽
- •華為稱不含美國技術的 Kirin 9050 Pro 搭載於售價 2,979 美元的 Mate XT2 三折疊手機,效能較前一年機型提升 42%。
- •華為的 Tau Scaling Law 與 LogicFolding 方法將電晶體密度提升 53.5%,該公司稱若透過傳統幾何微縮需約三年才能達成。
- •ASML 從未獲准向中國出口 EUV 微影機,使中國最先進的已證實製造能力停留在約 7 奈米,因此華為以架構而非僅靠更小電晶體來縮小差距。
- •Bernstein 預期輝達在中國 AI 晶片市場的份額將從 2025 年的約 40% 降至 2026 年的約 8%,而華為的份額將升至 50% 以上。
- •華為仍須在良率、散熱管理、成本與產量上證明競爭力,才能被視為台積電尖端製程的對手。

華為發表了一款新款智慧型手機晶片,該公司表示其中不含任何美國技術,凸顯其在中國半導體生產上縮小與全球差距的策略——儘管取得業界最先進設備的管道受限。這款 Kirin 晶片的推出,重要性不在於當前市場表現,而在於它揭示華為相對於輝達、台積電與 ASML 等公司的布局。這是自 2023 年以來的最新進展:當時華為 Mate 60 Pro 在美國制裁下搭載國產 7 奈米級 Kirin 處理器出貨,引起全球關注,而可追溯至 2019 年的美國出口管制首次切斷華為與 Google 服務及先進美國晶片技術的連結。
華為稱之為完全自主的晶片
華為將 Kirin 9050 Pro 搭載於售價 2,979 美元的 Mate XT2 三折疊智慧型手機。據報導,華為自行開發 Kirin 9050 Pro 所使用的 LinxiCore CPU 核心、GPU 與 NPU,效能較前一年的三折疊手機提升 42%。據信該晶片由中國最大晶圓代工廠中芯國際(SMIC)以中國境內可取得的設備與製程製造。
此次發表也凸顯華為打造自主技術生態系的努力。華為專有作業系統 HarmonyOS 定位為 Android 的替代方案,自 2024 年 10 月推出以來已出現在 8,500 萬台裝置上。
不過這款手機仍屬利基型產品。Counterpoint 預測,到 2026 年華為將佔摺疊手機市場 24% 的份額,而去年摺疊手機僅佔整體智慧型手機市場的 1.6%。這使得此次發表作為技術展示的意義,大於對出貨量的威脅。
以時間取代更小的電晶體
5 月 25 日,華為在上海舉行的 IEEE ISCAS 活動上發表其 Tau Scaling Law,詳見該公司的官方公告。此一新方法不以電晶體微縮為主要焦點,而是以最小化裝置、電路、晶片與系統之間的訊號傳播時間為基礎。華將 LogicFolding 描述為該技術的電路層級實作,涉及主動堆疊層與更短的連接線。此一框架呼應業界熟悉的摩爾定律爭論:隨著電晶體微縮在每個節點變得更困難且成本更高,封裝與架構——3D 堆疊在台積電、三星與英特爾已屬主流——已成為業界持續提升效能的另一槓桿。
根據 TrendForce 引述華為更新的文章,電晶體密度已從每平方公釐 1.55 億顆提升至 2.38 億顆,增幅達 53.5%。華為表示,若透過傳統幾何微縮達到同等成果,約需三年的開發時間。該公司還聲稱,六年多以來已有 381 款晶片依循 Tau 原則開發並量產。
「我可以有信心地說,未來十年我們在行動運算與 AI 運算的解決方案將具競爭力,」何庭波表示。
繞過 ASML 機台的布局
華為的 2031 年目標並非承諾實現真正的 1.4 奈米製程。該公司表示,未來高階晶片可達到相當於 1.4 奈米製程的電晶體密度。台積電計劃於 2028 年量產 1.4 奈米,而中國最先進的已證實製造能力普遍被認為約為 7 奈米。限制的根源在於設備:荷蘭公司 ASML 是 EUV 微影機的唯一製造商,在華府施壓下荷蘭政府從未核准對中國出口,後來也限制了先進 DUV 設備的出貨。
華為也並未放棄微影技術。據報導,該公司正投資先進 DUV 技術與其他設備的本土廠商。因此,架構只是填補設備缺口的一條路徑,並非製造進展的替代品。
輝達為何必須警惕
AI 代表更大的機會。華為計劃將 LogicFolding 技術延伸至 Ascend 加速器,Ascend 990 預計於 2030 年推出。中國的雲端與 AI 公司(包括許多打造大型語言模型的公司)在美國法規限制取得輝達最先進 GPU 的情況下,已轉向 Ascend 與其他國產加速器——這正是華為路線圖所瞄準的需求基礎。
根據一項調查,中國企業高層預期本土品牌將佔下一年度 AI 加速器總預算的 46%,高於先前的 30%。根據 Bernstein 的預估,輝達在中國 AI 晶片市場的份額預計將從 2025 年的約 40% 降至 2026 年的約 8%,而華為的份額將升至 50% 以上。
政策正在加速這一轉變。根據 CSIS,美國及其盟邦的出口管制在限制尖端技術觸及範圍的同時,也加速了中國的本土化努力。Cryptopolitan 也曾指出,輝達 H200 回歸中國之際,本土廠商持續擴大市佔率。
其影響遠不止於手機。半導體產業協會預測,2028 年前將有至少 4 兆美元投入 AI 資料中心基礎設施,其中半導體佔比最高可達 2.8 兆美元。若這些支出有更大份額流向中國晶片,可能在中國完全彌合製造差距之前,就衝擊全球加速器市場。
架構尚無法彌合的差距
華為仍須展現在良率、散熱管理、成本與產量上的能力。新款 Kirin 顯示優異的設計有助於克服部分製造限制,但尚不足以證明該公司能與台積電的尖端製程競爭。未來的觀察重點包括:中芯國際的本土設備鏈能否擴大先進製程生產、華為的 Ascend 路線圖能否如期出貨,以及美國與盟邦的出口政策將如何因應中國替代方案市佔率上升。
關鍵的要點在於戰略層面。中國正試圖利用其取得外國設備的受限管道來創造需求,並運用資本與工程人才建立自己的半導體產業。若中國成功,包括輝達在內的外國供應商,將在中國提升微影能力之前就感受到後果。