ASML Holding (ASML) stijgt 4% nadat Samsung High-NA EUV-partnerschap verdiept
Belangrijkste punten
- •Samsung wil High-NA EUV tegen 2028 introduceren in massaproductie van DRAM.
- •ASML en Samsung zullen gezamenlijk 12-inch photomasks ontwikkelen die bedoeld zijn om de scannerproductiviteit te verbeteren en het aantal waferbelichtingen te verminderen.
- •Intel heeft meer dan een miljoen wafers verwerkt met de High-NA-systemen van ASML en past de technologie toe op geselecteerde lagen van het 18A-proces.
- •TSMC verwacht in 2030 te beginnen met High-NA-massaproductie en werkt ook samen met ASML aan gro photomasks.
- •De vooruitgang van Chinese DUV-apparatuur en de waardering van ASML boven 32 keer de verwachte winst vormen risico's voor de vooruitzichten van het bedrijf.

ASML Holding (ASML) steeg deze week ongeveer 4% naar $1.870,48 nadat de Nederlandse fabrikant van lithografieapparatuur zijn partnerschap met Samsung rond High-NA extreme ultraviolet (EUV)-technologie verdiepte, het meest geavanceerde lithografieplatform in de massaproductie van chips. Lithografie is depatroonstap die bepaalt hoe klein en dicht opeengepakt de transistors van een chip kunnen zijn, en ASML is het enige bedrijf ter wereld dat EUV-systemen bouwt — daarom weegt elke adoptiemijlpaal door de hele industrie. High-NA is de volgende iteratie van die technologie, die de numerieke apertuur van de optiek verbreedt van 0,33 naar 0,55 om nog fijnere circuitstructuren te printen.
Op grond van de overeenkomst van 8 september zullen de twee bedrijven ook grotere 12-inch photomasks gezamenlijk ontwikkelen — de sjablonen die de circuitontwerpen op wafers overbrengen. Conventionele masks zijn 6 inch in het vierkant, dus een verdubbeling van de grootte zou een scanner in staat stellen meer waferoppervlak per passage te dekken en het aantal belichtingen per wafer te verminderen. Samsung van plan om High-NA EUV tegen 2028 in massaproductie van DRAM te brengen, een stap die High-NA verder brengt dan de op logica gerichte roadmap van Intel en TSMC, en in de geheugenproductie.
Die tijdlijn markeert een keerpunt voor ASML. Tot voor kort werden High-NA-machines vooral gezien als dure, experimentele gereedschappen; inmiddels worden het echte productieapparatuur. Er zijn geen totalen van systeemorders of leveringstermijnen bekendgemaakt bij de aankondiging van Samsung, waardoor de DRAM-datum van 2028 van Samsung en de productiestart in 2030 van TSMC de volgende concrete ijkpunten zijn voor de overgang van High-NA van experiment naar massaproductie.
Klantverbintenissen nemen toe
Intel biedt tot nu toe de duidelijkste validatie. de chipfabrikant heeft meer dan een miljoen wafers verwerkt op de High-NA-systemen van ASML en zegt dat belangrijke productiemetrische gegevens aan de verwachtingen voen. Intel past High-NA al toe op geselecteerde lagen van zijn 18A-productieproces — precies het soort productiebewijs op schaal dat ASML nodig had.
Ook TSMC is in beeld. De foundry-reus wil High-NA vanaf 2030 voor massaproductie adopteren — een verbintenis die twijfels over de langetermijnvraag wegneemt — en werkt ook met ASML aan de grotere photomasks. Het doel is een betere scannerproductiviteit en lagere chipproductiekosten. Naarmate AI-chipontwerpen complexer worden, verwacht TSMC dat meer lagen High-NA-gereedschappen nodig hebben, en elke extra laag betekent meer vraag naar ASML's duurste apparatuur.
Ondertussen bereidt ASML de aanbodzijde voor. Het bedrijf wil de low-NA EUV-capaciteit voor 2027 met 30% vergroten, ten opzichte van ongeveer 65 systemen in 2026. De EUV-capaciteit voor 2027 was al in juli nagenoeg volgeboekt, waardoor ASML een duidelijke runway heeft om orders om te zetten in daadwerkelijke leveringen.
Risico's blijven bestaan
China blijft de grootste onzekerheidsfactor. Een rapport van Reuters meldde dat in China gebouwde immersion DUV-systemen in productie zijn genomen. DUV, of deep ultraviolet, is de lithografiegeneratie die aan EUV voorafgaat en nog steeds een groot deel van de reguliere chipproductie in de industrie ondersteunt. Die machines zitten nog ver achter op de technologie van ASML, maar als ze blijven verbeteren, zou China in de loop van de tijd minder kunnen leunen op buitenlandse apparatuur. De belangen zijn aanzienlijk: China was goed voor ongeveer 16% van de omzet van ASML in de eerste helft van 2026, en exportcontroles verhinderen het bedrijf al EUV en sommige geavanceerde DUV-machines daar te verkopen.
De waardering is een andere factor om in de gaten te houden. ASML handelt op meer dan 32 keer de verwachte winst, wat weinig ruimte laat voor misstappen. De aandelen staan ook ruwweg 48% boven een GF Value-schatting van ongeveer $1.270, wat betekent dat elke vertraging in de adoptie van High-NA het aandeel harder kan raken dan gewoonlijk.
Wall Street blijft desondanks positief. Analisten hanteren een Strong Buy-consensus voor het aandeel, gebaseerd op zes Buy-adviezen in de afgelopen drie maanden. Het gemiddelde koersdoel ligt op $2.391,80, wat ongeveer 29% potentiële winst ten opzichte van het huidige niveau impliceert.